产品展示 当前位置:首页产品展示—MSC磁控溅射镀膜机
MSC磁控溅射镀膜机
13418648576 在线咨询 在线咨询
产品详情
MSC磁控溅射镀膜机

设备简介

MSC磁控溅射涂层设备采用新型平面阴极磁控溅射源、旋转阴极磁控溅射源等,配备离子源、灯丝、偏压等先进辅助技术,结合智能挡板和可移动式工件转架,可在各种刀具、模具、零部件表面沉积高性能的硬质涂层。

配备旋转阴极磁控溅射源专门用于沉积高性能的超光滑、超致密、超硬膜层。如AlTi基、AlCr基、Si-含硅、B-含硼金属氮化物等涂层。

磁控溅射系列涂层设备因其高性能和高可靠而成为工艺涂层的理想系统。

设备特点

  • 平面阴极磁控溅射源、旋转阴极磁控溅射源离化率高
  • 大面积平面靶材、大长度柱状靶材利用率高        
  • 沉积速率快、涂层致密细腻
  • 单层和复合多层纳米结构膜层
  • 合理的结构设计、成熟的工艺参数
  • 稳定的控制系统、远程操作与监控

设备参数

设备型号

MSC-900A

MSC-1200A

MSC-1800A

MSC-2200A

有效涂层区域

∅700×600

∅700×900

∅700×1500

∅700×1800

可选配置

平面磁控溅射源、旋转磁控溅射源、离子源、灯丝、偏压

涂层工艺时间

5-8h

涂层类别

TiN、CrN、TiCN、AlTiN、AlCrN、AlTiSiN、AlCrSiN、Si-、B-等

系统最高温度

550℃

沉积温度

<500℃

最大载荷重量

1000Kg/2000Kg

涂层性能参数

涂层名称

涂层厚度(μm)

涂层硬度

(HV)

工作温度

摩擦系数

涂层颜色

TiN

2-6

2500

600

0.2

金黄色

CrN

2-10

2500

600

0.2

银灰色

TiCN

2-4

2800

500

0.2

灰黑色

AlTiN

2-5

3300

900

0.5

蓝黑色

TiAlN

2-6

3300

900

0.4

紫黑色

AlCrN

2-5

3200

1000

0.35

黑灰色

AlTiSiN

2-4

3300

1100

0.3

土黄色

 

上一篇:MIC离子氮化+PVD 下一篇:MEGC磁控溅射电子枪蒸发复合镀膜机
服务热线 13418648576
公司邮箱 cmw73@163.com 公司地址 辽宁沈阳市沈北新区七星大街69-97号
辽宁纳太科技有限公司 辽ICP备2021001545号-1