2021/08/18
(1)基板有低温性。相对于二级溅射和热蒸发来说,磁控溅射加热少。
(2)有很高的沉积率。可溅射钨、铝薄膜和反应溅射TiO2、ZrO2薄膜。
(3)环保工艺。磁控溅射镀膜法生产效率高,没有环境污染。
(4)涂层很好的牢固性,溅射薄膜与基板,机械强度得到了改善,更好的附着力。
(5)操作容易控制。镀膜过程,只要保持压强、电功率溅射条件稳定,就能获得比较稳定的沉积速率。
(6)成膜均匀。溅射的薄膜密度普遍提高。
(7)溅射的金属膜通常能获得良好的光学性能、电学性能及某些特殊性能。
(8)溅射可连续工作,镀膜过程容易自动控制,工业上流水线作业。
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